Inferno B 取りは、バナナがピット縁まで付いた瞬間に CT がファーストコンタクトを渡すか決めきれない半拍で崩れる。坑底・縁・ショート箱の三層と、下グー後のライブラリ三角回防、練習用三ラインをプロ視点で整理する。
ファーストコンタクトを売る前の半拍
Inferno の B サイドは、単発のエイム勝負より バナナがピット縁まで付いたのに、CT がまだファーストタッチを渡すか決めていない 半拍で止まりやすい。二階下のプラントゾーンは平面ではなく、坑底・坑沿（ピット縁）・ショート箱 が縦に重なる。座標だけ覚えて 誰が先に遮断を取ったか を外すと、スモークは開いたのにスロープ上で血を払う赤字が出る。
ピット縁スモーク：丸い煙ではなくスロープの主権
バナナを押すとき、最初のスモークは CT 側スポーン／トリプルからピット縁を覗く斜線を切る ことが目的で、レーン全体を塗りつぶす必要はない。プロのデフォルトでは、遮断の外縁は ピットとショート箱の狭い隙間 に乗ることが多い。坑内に下がった CT は煙が散るのを待つか、フラッシュで再ピークするしかない。T は 第一ボディをスロープ頂上の後縁 に置き、一発のフラッシュでタイミングをずらす——爆高は CT が癖で pre-aim する縁の高さ、本人は煙縁から切り込み、ワイド角をハーフワイドに圧縮する。
二つ目は 坑内の火または HE が定番。火は坑底を全部舗装しなくてよく、坑内から step-out して補射する道 だけ封じれば足りる。HE は ショート箱後縁 に落としてホールド解除か位置変更を強いる。順序は逆にできない：遮断→位置取り強要→プラント付近の確権火。 先に坑火、後から遮断だと、CT はスポーン線から依然として通行料を取れ、バナナは再び 1v1 の料金所になる。
下グー後の CT 回防：ライブラリ折れ角の二拍
デフォルトプラント後、CT の回防は坑への直進ではなく、ライブラリ—トリプル—スポーン の三角で 二拍 組む。第一拍は スポーン側フラッシュか HE で坑内の残りを探る。第二拍は ライブラリ角から切り出し、ショート箱後縁の火 で解体位置を晴らす。T が下グー後を守るなら、道具勘定は前もって書く：ポストプラントスモーク（スポーン線）、ピット縁更新スモーク（スロープ速攻対策）、ライブラリ口の火（折れ角 peek の遅延）。
縁スモークの更新タイミングはプラント位置と強く連動する。ショート箱寄りなら CT はライブラリ比重が上がる；坑底寄りならスポーン速推の比重が上がる。同じ四道具でも、二発目のスモーク着弾 はプラント偏移に合わせて動かし、固定ラインの暗記だけにしない。クラッチで CT にスモークが一本だけなら、ライブラリ口遮断 は深いスポーンスモークより得なことが多い——T の解体軸は縁がデフォルトで、ライブラリ角は最後にタダで情報を取れる窓だから。
練習リスト：バナナ—坑—プラントを三線に圧縮
カスタムでは三セットを固定録画：スロープ頂遮断＋縁フラッシュ（CT がまだ坑内 pre-aim するか）、プラント後 8 秒トリプル（ポスト煙・ライブラリ火・スポーン HE 各一）、CT 5v4 デフォルト回防（初キルなしでライブラリ誰先 peek）。各線で記録するのは二つだけ：最初の道具が爆ぜた瞬間自分がどこにいるか、CT の第一発がどの窓線から出たか。Inferno のバナナと二階下グーは、スロープ主権をプラント確権に換える試合；勘定が合えば、銃戦は「誰の反応が速いか」から 「誰が通行料を一回少なく払ったか」 に戻る。